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哈尔滨工业大学史诗成果:DPP-EUV光源

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紧迫需要哈尔滨工业大学的任何时候,现在该国急需光刻机。

哈尔滨工业大学DPP-EUV光源的出现确实是史诗般的成就。

一流的大学应该具有世界一流水平。

这是哈尔滨工业大学在超精密加工和超精密测量领域数十年积累的结果!中国科学院长春光机所的光刻机所需要的镜头和曝光系统已经取得了突破,而最新消息也表明,长春光机所所在的实验室已经建造了一套EUV光源设备。

长春光学机械研究所正在开发基于哈尔滨工业大学DPP-EUV光源的EUV曝光机,预计将在两年内推出。

光刻机的两个核心组件是双工件台和曝光系统。

EUV光刻称为极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),其光源主要有两种:1.一种是DPP-EUV极紫外光源。

哈尔滨工业大学荷兰放电激发等离子体EUV极紫外光源ASML光刻机公司对此进行了研究。

DPPEUV光源使用放电使负载(Xe或Sn)形成等离子体,辐射紫外线,并使用多层反射镜反射和净化能谱以获得1 EUV光。

DPPEUV光源的优点是产生EUV的能量转换效率高且成本低;缺点是电极热负荷高,碎片多,机理复杂,光学器件易损坏,聚光角度小。

2.激光等离子光源(LPP)LPPEUV系统主要包括激光器,会聚透镜,负载,集光器,掩模,投影光学系统和芯片。

原理是使用大功率激光器加热负载(Xe或Sn)以形成等离子体,该等离子体辐射紫外线,并使用多层反射镜反射和净化能谱以获得1 EUV光。

LPPEUV光源的优点是光源尺寸小,碎屑或颗粒类型少,光收集效率高以及EUV输出功率的放大更容易。

当然,它也有缺点,主要是因为系统设计复杂且昂贵。

这两种光源。

哈尔滨工业大学15年前进行了研究!在中国,研究EUV极紫外光源有两个主要单元:1.哈尔滨工业大学可调激光技术国家重点实验室。

2.中国科学院上海光学机械研究所(该项目兼研究员,毕业于哈尔滨工业大学,神光2号负责人之一)。

哈尔滨工业大学取得的主要突破是:放电激发等离子体EUV极紫外光源。

它与荷兰ASML光刻机公司使用相同的EUV极紫外光源。

但是要使它成为光刻机需要2年的时间!对于荷兰光刻机,目前在美国生产极紫外光源,一些主要组件在德国和其他国家生产,清洁组件由蓝鹰设备生产。

如果在两年内国产3-5nm光刻机,将为华为省钱!哈尔滨工业大学在世界上是无与伦比的!以下是世界领先的结果。

也来自哈尔滨工业大学的实验室。

哈尔滨工业大学可以在需要时赶赴祖国。

这是军事大学的责任!实际上,中国在1977年成功地研究了光刻机。

当时,还没有像荷兰的ASML光刻机公司这样的公司。

遗憾的是,在1980年代,中国还不如购买它。

过去,日本人使用激光等离子光源。

荷兰的ASML光刻机公司使用气体放电激发等离子体EUV极紫外光源(哈尔滨工业大学气体可调激光技术国家重点实验室研究与他们相同的东西)。

原标题:平版印刷机研发:在国家迫切需要的时候,哈尔滨工业大学从来都不缺文章来源:[微信公众号:半导体行业]欢迎大家关注!请指出转载文章的来源。

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